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英特尔将嵌入式NOR闪存推进至65nm

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英特尔(Intel)公司日前表示,计划在2008年使用65纳米制造过程生产嵌入式NOR闪存芯片,主要面向于消费电子产品

作者:hyy(转载/原文:国际电子商情) 2007年8月24日

关键字: 闪存 NOR 英特尔

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英特尔(Intel)公司日前表示,计划在2008年使用65纳米制造过程生产嵌入式NOR闪存芯片,主要面向于消费电子产品、有线通信设备以及行业应用,该公司称,先进的制程将会提升产品的性价比,同时延长了产品寿命周期。

“大部分嵌入式设计的生产周期仍然要长于手机或其他消费类产品,”英特尔闪存产品群组总经理Glen Hawk说:“英特尔NOR无线产品已经采用该领先的制程进行大量生产。我们利用这些技术和经验来加速我们的产品开发以及生产进度。

英特尔公司透露,嵌入式NOR闪存采用并口和串口规格。看来,英特尔似乎使用“嵌入式”名称来指一套应用,而非表明NOR闪存是嵌入到一个逻辑芯片中。

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