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海力士20层超薄型NAND闪存研发成功

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海力士20层超薄型NAND闪存研发成功

作者:hyy(编译/整理) 2007年5月9日

关键字: Hybird 海力士 N-Gage

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海力士半导体(Hynix Semiconductor)宣布,采用多芯片封装(MCP,Multi-Chip Package)技术的20层超薄型NAND闪存研发成功,主要面向手机等多功能消费电子产品。这是业界中最薄的25微米超薄型半导体,其厚度只有1.4mm,采用了适合批量生产的层积技术。

对于半导体工艺而言,它们在制造的时候,需要对各个微小的晶体管进行连接,而且是在芯片底部附着的金属基板上进行的,一般情况下,半导体越薄,这块金属基板越容易产生裂缝。海力士在生产该产品时,和以前的工艺有所差异,将一些垂直不堆叠的芯片改为台阶型层积的方式,使得底部的芯片能够支撑上面的芯片,再加上金属基板的固定作用,减少了出现问题的几率,从而提高了良品率。为了在最小面积里面做到20层堆叠,所采用的技术有:

  • 为了在芯片两测或其中一侧进行布线,改变了半导体内部电路,进行了重布线。

  • 采用了只有A4纸1/4厚度 的重布线技术。

  • 采用了晶圆激光切割技术, 有利于减少冲击。

  • 采用了可以减少芯片间连接部份厚度 的技术,例如晶圆背面迭片结构(WBL,Wafer Backside Lamination)。

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