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英飞凌(Infineon)与南亚科技(Nanya)日前宣布,其在德国英飞凌德勒斯登研究中心共同开发的DRAM 90纳米制程技术已成功通过认证。两家公司以90纳米制程技术生产之内存产品,已经获得主要客户及英特尔之验证,而90纳米制程技术也已于德勒斯登的12吋晶圆厂开始进行量产。
英飞凌在五月底前,已有5%的全球总生产量由110纳米移转至90纳米制程技术。同时在台湾,由英飞凌与南亚科技共同合资成立的华亚科技12吋晶圆厂也开始进行90纳米制程技术转换。英飞凌表示,藉由加快下一世代制程技术转换的脚步,以提升成本竞争优势及产品效能,是DRAM生产制造的获利关键。
相较于110纳米技术,90纳米制程结构更进一步缩小芯片尺寸,因此每片晶圆裁切出的芯片量可望增加30%以上。藉由尺寸缩小和12吋晶圆使用所预期增加的产量,是芯片生产成本能够大幅下降的因素。英飞凌和南亚科技的策略联盟也同时包括下一世代70纳米技术合作。
英飞凌指出,其90纳米的制程系受益于之前在110纳米时就已引进的先进193nm黄光机台设备。193nm是持续微缩制程的关键技术。在90纳米时,由于使用「棋盘式内存数组」,故能用改善之平面标准制程,即可达到优越的存贮电容,而不需使用复杂的高介电质材料。
除了成本优势外,更小的制程也是高速和低功率DDR2和DDR3 SDRAM的重要技术。英飞凌和南亚科技是第二家以90纳米技术推出的制造商。512Mb DDR2 SDRAM预期在2005年的下半年推出。其它产品包括256Mb DDR2和1G DDR2将会陆续提供。
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