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作者:存储时代——张广彬 2006年12月18日
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磁头的迁就与进步
垂直记录不仅能够加大磁层的厚度,增强磁位单元抵抗超顺磁性的能力,同时也使相邻的磁位单元由纵向记录的首尾相接转为平行排列,可以互相稳定。不难看出,它具有夹层结构的所有优点,区别在于革命更加彻底。
夹层结构对磁头的影响不大,而垂直记录则不然——确切地说,它需要改变写入元件的设计。在纵向记录的时代,由于磁位单元位于盘片的表面,写入元件基本上自身即可形成磁场回路,只需在下方开一个缝隙,便可利用该狭缝磁场向磁位单元写入磁变换。
LMR与PMR的写入磁头对比
垂直记录技术的核心恰恰在于磁位单元的磁化方向垂直于盘片表面,这意味着不能再沿用环式(ring)写入元件,而必须改用单极(monopole)写入元件。单极写入元件的底部呈开放式结构,一端是信号极(Signal Pole),另一端是返回极(Return Pole)。信号极较窄,因此其下方的磁通量密度较高,从而可以将磁变换写入经过的磁位单元;返回极较宽,降低了磁通量密度,所以能保证下方通过的磁位单元不会被错误地改写。
PMR磁头工作示意图
此外,为了形成磁场回路,磁层的下方还要加入较厚的软磁底层(Soft Underlayer)。软磁底层让磁头可以提供更强的磁场,从而能够以更高的稳定性将数据写入磁位单元。
相对而言,磁头的读取元件仍然可以用GMR,譬如WD第一款采用垂直记录技术的2.5英寸硬盘便沿用了GMR磁头。不过,随着磁录密度的继续增长,灵敏度更高的下一代磁头(确切地说是读取元件)技术将会逐步普及开来。
TMR(Tunnelling MagnetoResistive,隧道磁阻,也称“隧道巨磁阻”——有人据此简写为TGMR或TuMR)的磁场灵敏度比GMR更高,并具有很强的抗静电能力,被公认为是后者的替代技术。隧道阻抗随铁磁层的磁化状态而变化的隧道磁阻效应在1975年被发现,1995年人们在室温下实现了TMR效应。除磁头外,MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory)是TMR效应在存储器中应用的另一个成功例子。
传统的CIP(Current In Plane,电流在平面内)型GMR元件与TMR元件及CPP(Current Perpendicular to Plane,电流垂直于平面)型GMR元件的对比,GMR已吸取了部分TMR的优点,两者间的分野不再明显
有趣的是,TMR磁头不约而同地首先在各家硬盘厂商的“末代”纵向记录硬盘中得到应用,譬如希捷Barracuda 7200.8(2004年)和7200.9(据内部人士透露,时隔一年的两个系列本质上是同一个设计)、迈拓DiamondMax 11、三星SpinPoint M60和T133(2005年第四季度)、日立Deskstar T7K500(2006年第二季度),以及WD在2006年7月底开始量产的单碟160GB Caviar。原因主要有两个:一是纵向记录技术发展到接近极限,磁位单元可感知的磁场信号已非常微弱,需要更加灵敏的读取元件;二是设计者有必要在转向垂直记录技术之前积累运用TMR磁头的经验,否则两个一起上的话变量太多。
TMR磁头和垂直记录技术之间没有必然的关联,因此两者的发展路线并不重合,但普及时间却赶在了一起。也就是说,TMR磁头差不多也是从2006年开始获得较为广泛的采用,每家硬盘厂商都有了相应的产品,而2007年“垂直记录+TMR”将成为新品的主流搭配。不过,TMR的影响力比垂直记录技术要逊色一些,新闻效应就更不可同日而语了。
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