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作者:存储时代——张广彬 2005年6月23日
关键字: 垂直记录 PMR Hitachi GST 日立
在本页阅读全文(共4页)
10倍!垂直记录的未来发展
对于包括日立在内的各硬盘相关厂商在垂直记录技术上的进展,本站已经有过诸多报道,此处不再重复。在本次技术交流会上,日立方面对他们所取得成果进行了较为详细的介绍。
日立环球存储科技公司全球尖端科技高级总监高野公史从1998年开始管理垂直记录项目
日立的垂直记录硬盘从2004年12月开始接受现场测试,硬盘性能高于预期,“性能数据类似于我们通过一个成熟硬盘得到的测试结果”,没有硬错误(如数据丢失),软错误(磁头试图在首次失败之后再次读取数据)极少,数据读写速率也没有降低。
日立的相关人员已经在日常工作中用上垂直记录硬盘啦——羡慕吗?风险其实也挺大的
IDC在最新的特别报告《2005年硬盘市场:零件技术与业务模式》中对垂直记录技术进行了预测,指出:
日立利用垂直记录技术实现230Gb/in2磁记录密度的演示
IDC存储技术研究总监David Reinsel表示:“企业引进垂直记录及其它新技术,需要重新审视现有的业务模式、合作伙伴和发展策略。这意味着企业需要增加产品研发和新生产设备等方面的投资,也将促进业界的进一步整合。”通过采访不同领域的专家,并汲取他们的专业意见,IDC还为硬盘生产商和零件开发商提供了至2015年在磁记录密度提升及业界的整合情况等方面的建议,包括:
虽然有了垂直记录技术,但未来几年磁盘的存储面密度发展仍将趋缓
Bill Healy先生表示,采用垂直记录技术后,硬盘的存储面密度的年增长率(CGR)将在40%左右(以此速度计算,垂直记录大约可以发展7年)。本站记者据此问道,如果未来几年闪存的容量以每年100%的速度增长,微硬盘所面临的压力会不会比较大?他十分乐观地认为,即使如此,闪存在容量和成本上也无法与微硬盘竞争(日立坚持不推出小于1英寸的硬盘很可能与这种思路有关)。
正如我们在前面所说的,无论采用纵向记录还是垂直记录,硬盘的基本原理和结构都不会发生改变。垂直记录所带来的技术变革主要发生介质(盘片)、磁头和读写电子器件上,硬盘的生产线没有另起炉灶的必要。即使是磁头,也不一定完全重新设计,因为磁头的读取和写入部分是相对独立的,与纵向记录相比,垂直记录使磁头的写入部分构造改变较大,但读取部分现在仍可以用CIP(Current-in-Plane,电流方向在平面内)模式的GMR读取头,是否需要改用TMR(Tunnel Magneto-Resistance,隧道磁阻)或CPP(Current-Perpendicular-to-Plane,电流方向垂直于表面)模式的GMR读取头主要取决于存储面密度的发展,和垂直记录并无必然联系。
日立最后对“垂直记录技术带来的可能性”进行了展望:
晶格介质(左侧框中靠右的部分)将把磁记录密度提高到每平方英寸1Tb以上
现在代表1 bit的磁单元由大约100个磁粒所构成,而晶格介质要做到的是每个磁粒代表1 bit,大大提高了存储面密度。随着磁单元的进一步减小,必须要采用高矫顽力的材料做磁层,由于其非常难以写入,所以要在写入时用激光照射加热,写入线圈在高温的辅助下将磁路反转,即热辅助磁记录。希捷也在几年前就开始研究HAMR,不过这种技术要进入实用阶段,恐怕要到2010年以后了。
热辅助磁记录技术利用新的、非常难以写入的介质,这种介质往往可以更加稳定地写入数据磁介质。通过加热介质记录数据,利用热能简化数据的写入,但是在常温下存储和读取数据。与晶格介质类似,它可以将区域密度提高到Tb/平方英寸级别,并很可能与晶格介质配合使用。
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