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DRAM和闪存芯片供应商中国台湾力晶（PSC）与欧洲独立纳米电子研究中心IMEC展开合作，共同研发32纳米以下存储器工艺。
根据合作协议，PSC将和IMEC在先进光刻工艺上展开合作，涉及沉浸式曝光、二次图形曝光以及深紫外光刻等工艺中的技术难点。自2008年3月起，PSC的研究人员将进驻IMEC以便与IMEC的工作人员紧密协作，建立基本了解以便更好地开发32纳米及以下存储工艺的解决方案。
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