TDK试制成功可形成伺服图案的离散轨道介质

日本TDK日前试制成功了可形成磁头伺服控制图案 (Servo Pattern)的2.5英寸离散轨道（discrete track）介质。轨道间距（Track Pitch）为180nm，并公布了在轨道上进行位数据记录及读取的结果。在发布会上，多名技术人员详细地做了笔记。其中一名技术人员兴奋地说：“在垂直记录方式已经实现实用化的今天，作为新一代技术之一，离散轨道技术已经引起广泛关注。现在已经达到了可形成伺服图案的水平，真是太棒了。”

可形成磁头伺服控制图案

离散轨道介质采用在记录轨道间设计沟道的方法来减少对相邻轨道的影响。在此次的国际磁技术会议（Intermag 2005）上，除TDK外，美国Komag等公司也公布了开发成果。TDK在用于进行垂直记录的双层记录介质上形在了凹槽。在软磁性层（SUL：soft under layer）上采用了钴（Co）类材料，在记录层上采用了钴铬铂（Co-Cr-Pt）材料。

在记录介质上设计沟道的步骤如下。首先，在磁性层上依次层叠金属掩膜（Metal Mask）及光刻胶。在利用压印（Imprint）技术在光刻胶上形成沟道与伺服图案后，通过蚀刻（Etching）将光刻胶图案转印到正下方的金属掩膜上。然后再利用蚀刻技术将金属掩膜图案转印到正下面的磁性层上。接着在磁性层之间的沟道部分填充非磁性体SiO2（二氧化硅），最后利用离子束蚀刻（IBE）技术对表面整平，整个设计工序即告完成。表面粗糙度为1nm左右。

轨道间距为150nm的试制示意图

为了展示离散轨道介质的效果，利用轨道间距为180nm的介质对位数据进行了记录和读取，与在相同条件对普通重直记录介质进行记录与读取的结果进行了比较。结果表明，普通垂直记录介质的误码率为10-4左右，而离散轨道介质大约只有10-7。记录和读取时分别使用了单极磁头和GMR（巨磁电阻）磁头。碟片转速为4200rpm，磁头浮起量为10nm。